光化學反應裝置CY-GHX-DC技術參數：

型號：CY-GHX-DC多功能控溫光化學反應儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續調節大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

4.氙燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

5.金鹵燈功率調節范圍：0~500W可連續調節。

（二）小容量反應部分

1.石英試管規格：30ml、50ml（或定做）。

2.可同時處理8個樣品（或定做）。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。

（三）大容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

（四）控溫裝置

1.冷卻水循環裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環裝置設有腳輪和底部排液閥。

大容量光化學反應儀產品配置：

光化學反應裝置CY-GHX-DC光化學過程是地球上普遍、量重要的過程之一，綠色植物的光合作用，動物的視覺。涂料與高分子材料的光致變性，以及照相、光刻、有機化學反應的光催化等，無不與光化學過程有關。
近年來得到廣泛重視的同位素與相似元素的光致分離、光控功能體系的合成與應用等，更體現了光化學是一個活躍的領域。光化學反應與一般熱化學反應相比有許多不同之處，主要表現在：加熱使分子活化時，體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布；而分子受到光激活時，原則上可以做到選擇性激發。體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學反應儀的途徑與產物往往和基態熱化學反應不同。
光化學研究反應機理的常用實驗方法，除示蹤原子標記法外，在光化學中早采用的猝滅法仍是有效的一種方法。這種方法是通過被激發分子所發熒光，被其他分子猝滅的動力學測定來研究光化學反應機理的。它可以用來測定分子處于電子激發態時的酸性、分子雙聚化的反應速率和能量的長程傳遞速率。
由于吸收給定波長的光子往往是分子中某個基團的性質，所以光化學提供了使分子中某特定位置發生反應的手段，對于那些熱化學反應缺乏選擇性或反應物可能被破壞的體系更為可貴。光化學反應的另一特點是用光子為試劑。
光化學的初級過程是分子吸收光子使電子激發，分子由基態提升到激發態。分子中的電子狀態、振動與轉動狀態都是量子化的，即相鄰狀態間的能量變化是不連續的。因此分子激發時的初始狀態與終止狀態不同時，所要求的光子能量也是不同的，而且要求二者的能量值盡可能匹配。
光物理過程可分為輻射弛豫過程和非輻射弛豫過程。輻射弛豫過程是指將整體或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉，分子回到基態的過程，如發射熒光或磷光；非輻射弛豫過程是指多余的能量整體以熱的形式耗散掉，分子回到基態的過程。
決定一個光化學反應儀的真正途徑往往需要建立若干個對應于不同機理的假想模型。找出各模型體系與濃度、光強及其他有關參量間的動力學方程，然后考察實驗結果的相符合程度，以決定哪一個是可能的反應途徑。一旦被反應物吸收后，不會在體系中留下其他新的雜質，因而可以看成是“純"的試劑。

光化學反應儀CY品牌系列主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品，測定反應動力學常數，測定量子產率等功能，廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。
    目前，各種干擾在各類工業現場中均存在，所以儀表及控制系統的可靠性直接影響到現代化工業生產裝置安全、穩定運行，系統的抗干擾能力是關系到整個系統可靠運行的關鍵。隨著DCS、現場總線技術的應用，被控對象和被測信號往往分布在各個不同的地方，并且他們與控制站之間也有相當長的距離，因此，信號線和控制線均可能是長線。其次，現場往往有許多強電設備，它們的啟動和工作將對測控系統產生強烈的影響。同時來自空間的輻射干擾、系統外引線干擾等問題尤為突出。因此，除有用信號外，由于各種原因必然會有一些與被測信號無關的電流或電壓存在，這種無關的電流或電壓通稱“干擾（噪聲）"。在測量過程中，這些干擾若不能很好地處理，那它將歪曲測量結果，嚴重時甚至使儀表或計算機不能工作。大量實踐說明，抗干擾性能是各種電子測量裝置的一個很重要的問題，尤其是DCS、現場總線技術的廣泛應用和迅速發展，有效地排除和抑制各種干擾，已成為必需探討和解決的迫切問題，因為干擾不僅能造成邏輯混亂，使系統測量和控制失靈，以致降低產品的質量，甚至使生產設備損壞，造成事故。因此，抗干擾技術在儀表測控系統的設計、制造、安裝和日常維修中都必需給予足夠的重視。